众所周知
，，由于多方面原因的影响，，，，2021年全球迎来了“缺芯时代”，，，芯片的短缺程度已经达到了30年来最严重的时刻
。
。。。

而我国由于受到以美国为首的西方国家的联合绞杀，，，，缺芯的情况尤为严重。。。。

中国手机界的领头羊华为，
，因芯片短缺甚至卖掉了荣耀品牌中心，，，在美国的针对下，，，我们似乎显得很被动，，，难道有着世界加工厂之称的中国，
，就没有能力自主生产芯片吗？？？

事实上
，，，，中国在芯片设计领域一直处于世界领先水平，，，
，就比如说华为的手机芯片，
，，都是我们自行设计后交给台积电代工生产的，，，其性能有目共睹，，，并不比美国生产的要差。。。。

那么，，
，，既然我国在设计芯片上没有问题，
，，为什么还是被卡住了咽喉呢？？
？其中的关键
，，就在于一种制造芯片必不可少的机器——光刻机。。

其实芯片不过是一块具有精密线路图的硅片，，而如何才能将复杂的电路图复刻到硅片上，，，，这就要靠光刻机了。。。

说起来
，，，
，光刻机的工作原理与照相机有些类似
，
，在制作芯片时，，，首先要对硅片进行处理，
，，，一般是在上面涂上一层光刻胶
，，，
，当光刻胶遇到透过模版照射的光线后，，
，暴露在紫外线下的部分
，
，，
，就会发生特殊的变化。。

之后再经过填充金属物，，去除光刻胶，
，，进行绝缘处理等步骤，
，，，一块芯片就制作完成了。。
。

当然
，
，，，至于这块芯片是否能够达到标准，，，还要经过精密地检测，，，，要知道，，这其中任意一步处理过程，，
，
，可都是纳米级的，，，
，所以光刻机绝对称得上人类高精尖仪器的天花板。。

提起世界上最顶尖的光刻机制造商，，
，非荷兰的ASML公司莫属。。

这家公司成立于1984年
，，，，用了三十多年的时间，，，几乎垄断了全球高端光刻机市场。。

ASML公司的发家史众人皆知，，但恐怕很少有人知道，，，，中国早在1977年就拥有了独立制造接触式光刻机的能力，，比ASML公司成立的时间还要早上7年。
。

按说，，，，中国在研制光刻机的时间上，，，，可是比ASML公司有优势的多
，，，，可为什么后劲不足，，
，，经过数十年的发展，
，反而难以望其项背了呢？？

第二次世界大战结束后，，
，，和平和发展成为了国际社会的主题，，
，
，为了改变中国贫穷落后的局面，，
，跟上世界科技发展的步伐，
，，，国家决定成立计算机科研小组，，由著名数学家华罗庚担任组长，
，，，致力于电子计算机技术的研究和开发。。

到了1956年，，科研小组取得了巨大成就，，
，我国首次独立制造了第一只晶体三极管
，，由此刻起，，，，中国正式踏足半导体领域，，，开启了新的科技时代。。。

经过众多科学家的不断探索和尝试，，，中国在半导体领域取得了长足的进步，，1965年，，，在第一只三极管横空出世的9年之后
，，中国的第一块集成电路在上海问世。。。

而要制造集成电路，，
，光刻机是必不可少的设备
，
，，由此我们不难推断出，，，早在1965年前后
，，，我国就已经拥有了制造光刻机的能力。。。

1977年，
，，我国更是制造出了GK-3型半自动光刻机
，，，，这在当时绝对是站在了世界前列。。。

在此后的数年时间里，，，中国的半导体事业一路高歌猛进，，，光刻机制造技术也跟着水涨船高
。。

到了80年代
，，
，，中国的半导体技术已经达到了世界先进水平，，，虽然比之美国还略有不足，，但也不再是高山仰止。。。。

如果按照这个势头发展下去
，
，中国在光刻机制造方面
，
，，
，虽不敢说赶超美国，
，，，但想必差距也不会如此之大。
。

毕竟在改革开放之前
，，中国整个半导体产业链都能够自给自足，，根本不需要进口。
。。

但随着改革开放的实行，
，国际市场全面放开，，，，大批外国企业纷纷涌入中国，
，
，
，这样一来，，，，许多国际上先进的设备和技术
，，，我们就可以用钱买到了。。

当时绝大多数企业的当家人都算了这样一笔账，，，如果把投入到科研项目上的资金
，，，拿出来用于购买外国的先进设备，，，，似乎更为划算一些
，，，，毕竟当时的中国经济条件有限，，与其投入大量资金搞研发，，费时费力，
，，生产出来的设备还没有人家先进，，，不如直接买现成的来用，，，
，这样能直接形成经济效益，，
，岂不美哉？？？？

结果很多企业也就没了搞开发的动力，，，即便有一些企业依然坚持自力更生，，，，但没有足够的资金注入，，妄想在光刻机领域更进一步，，无异于痴人说梦。。。

于是从这时起，
，中国在光刻机领域就陷入了停摆的状态，
，，，在随后的30年时间里，，，，几乎没有一点进步。。。
。

就当时的国际环境来看，，
，，这种“造不如买”的想法，，也不能说是错的，，
，，毕竟快速发展经济才是中国的第一要务
，，
，，而且当时美国最大的敌人还是苏联
，
，，，中国则是美国拉拢的目标。。

因此无论是在经济上，
，
，还是在技术上，，，
，美国非但没有限制我们，，还给了我们许多支持。。。。

只不过谁也没料到的是，，，，美中两国的蜜月期会是如此短暂，
，，只经过了十几年时间，，
，美国就翻脸不认人了。
。
。

1996年《瓦尔纳协定》的出炉，，，彻底暴露了美国遏制发展中国家的真实嘴脸。。。

该协定中规定了两大类清单的禁运内容，，，
，包括先进材料、、材料处理
、、电子器件、、、计算机
、、、电信与信息安全、、
、、传感与激光、、、
、导航与航空电子仪器
、、、船舶与海事设备、、
、、推进系统、、各类武器弹药、、设备及作战平台。。

而中国，，，，便在这禁运名单之内，，
，，直到此时，，中国才如梦初醒
，，，真切地体会到所谓的国际盟友根本就靠不住，，一切只能依靠自己。
。

有了这个协定，
，，中国再想像过去一样，，，，随时向发达国家购买像光刻机这样的先进设备
，，就没那么容易了，，换句话说，，，中国能不能买到光刻机，，，美国说了算。。

自《瓦尔纳协定》签署至今，，中国还没能购买到哪怕一台高端的光刻机，
，甚至其中的零件都买不到。。
。

不过在整个90年代，，，，世界上的光刻机技术也陷入了瓶颈，，，，光刻光源卡在了193纳米，
，20多年毫无进展
。
。
。

2000年，，，，中国幡然醒悟
，，光刻机的研发再次受到了国家的重视。。

随着越来越多的半导体科研人才从海外归来，
，2002年3月，，国家在上海成立了上海微电子装备有限公司，，，，致力于光刻机技术开发。。。。

也是在这一年，，台积电的林本坚博士终于攻破了光刻机193纳米技术难题，，世界光刻机技术开始一路高歌，，，，突飞猛进。。。

中国此时则刚刚开始193纳米光刻机的开发，
，，，已经远远落后于世界发达国家，
，，
，经过了10多年的努力，，，中国在光刻机技术领域已有了长足的进步，
，，但直到今天，，，，在高端光刻机领域，，，仍然找不到中国的身影。。。
。

按说有着世界工厂之称的中国，，
，制造业应该是比较发达的，
，，，可为什么制造高端光刻机却把我们给难住了呢？？

如果关注一下我国制造业的讯息，，不难发现，，虽然在某些领域中
，
，中国的制造水平能够进入世界第一梯队，
，，甚至能够领先世界，
，
，但在很多方面
，
，，我们依然落后于发达国家良多。。

尤其是高端材料制造业更是中国工业的短板，，就拿高端光刻机中最核心、、、、也是技术含量最高的零部件，
，，，光学镜片和光源来说，，，
，曾经的中国根本就没有能力制造。
。

更何况一台高端光刻机，，，，拥有数万甚至十几万个精密零件组成，，至今为止，
，世界上还没有哪个国家能够独立制造高端光刻机，，，，即便是ASML公司也做不到。
。
。
。

ASML公司之所以能够迅速崛起，，，与西方发达国家的支持是密不可分的，，，，该公司有一条十分睿智的规定，，，
，那就是想要获得该公司的优先供货权，
，
，，就必须进行投资。。。。

也就是说，，
，世界上的发达国家或多或少都拥有ASML公司的股权，
，，比如台积电，，蔡司，，
，三星，，，
，英特尔，
，海士力等，，换句话说，
，
，
，整个西方世界都是该公司的后盾，，据统计，，该公司每年用于科研开发的资金就超过了4亿欧元。。

即使强如ASML
，，其生产的高端光刻机也有90%以上的零件来自进口，
，，比如最核心部分的EUV光源来自德国和美国，，，光学镜片来自蔡司公司
，
，
，，还有一些零件来自于日本，，，，我国的台湾省等。。。

可以说ASML的成功是众多世界顶级企业一起努力的结果，，
，所以它能够成为世界上唯一一个有能力制造7纳米EUV光刻机的公司，，，丝毫不会让人感到意外。。。

除了光学镜片和光源外，，，还有一种看起来不太起眼的材料，，，也严重制约了我国芯片制造业的发展，，，，那就是光刻胶。
。。
。

当然，，光刻胶的技术含量远远比不上光学镜片和光源，，，，但这并不代表着它不重要
。。。

光刻胶性能越好，，制造出的芯片质量越优，，，与其他高精尖零件不同的是，，，我国完全有能力制造高端光刻胶
，
，，
，即使不如日本，，也相差不大。。。。

可关键是，，过去我国投资光刻胶生产的企业实在是太少了
，，，国产的光刻胶根本无法满足中国市场的需求，，，，因此我国的绝大部分光刻胶都要从日本进口，，一旦日本限制出口量，，，
，对我国影响巨大
。
。
。

由此可见，，，想要完全凭借本国一己之力，，打造出一台高端光刻机有多困难，，，哪怕就是在去年，，，，也有很多专家公开表示，，，
，中国想要独立制造高端光刻机的希望不大。
。

不过我国素来善于创造奇迹，，，尤其是在面对来自外界的压迫时，，，更能够爆发出让世界意想不到的力量，
，，
，由于近几年美国对中国的制裁不断升级，，中国不得不加大在芯片制造领域的投资力度
。。

随着时间的推移，，中国在光刻机的关键技术领域都取得了喜人的成绩，，
，不久前中科院传出一条喜讯
，
，
，清华大学和联邦技术学院合作开发了一种新型粒子加速器，
，通过实验证明
，，，这项技术完全可以为光刻机提供稳定可靠的EUV光源。。
。
。

无独有偶
，
，，，中科科美业同时传来喜讯
，，其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也于今年6月28日正式投入使用。。。。

那么，，镀膜技术跟光刻机又有什么关系？？？

首先我们要了解的是，，
，EUV光刻机对光学镜片的光洁度要求相当之高
，，即表面光洁度不得超过50皮米，
，，其困难程度不亚于制造一面方圆390000平方公里的镜子。。
。

中科科美的这项镀膜技术，，，，不但能够实现光学镜片的光洁度，，还能实现光学镜片对光的反射、、、
、分束、、、、分色、、、、滤光以及偏振等在不同情况下的特殊要求。。

这两大核心技术的突破，，，，使我国在高端光刻机制造领域向前跨了一大步，，，相信假以时日
，，中国一定能够具备独立制造高端光刻机的能力
。
。
。

当然，，，即便我们手里有了世界上最先进的光刻机，，
，也不意味着中国能在芯片制造领域一骑绝尘
，，相比起这些硬件设备，，，有着“芯片之母”之称的EDA软件则更为棘手。
。。

想要设计芯片
，，工程师离不开EDA软件，
，，，虽然由于有能力设计芯片的公司数量有限，，造成EDA软件的市场并不是很大
，，
，但它却是制造芯片的第一步，，，
，离开EDA软件，，
，，即使拥有世界上最先进的光刻机，
，也不过是一推废铁而已。
。。

现今世界上最大的EDA软件商有三家，
，，，分别是Synopsys、
、Cadence以及Mentor。
。
。

曾经他们垄断了超过80%的中国市场，，，不过自从受到美国制裁后，，，中国政府越发认识到，，
，
，像这种买不到的核心技术，，，，必须进行国产取代，，才能最大限度地摆脱中国对发达国家的依赖。。。。

近年来国家和一些大型企业如华为等，，都在不断增加这方面的投资，，只不过想要在技术上取得突破，，，仍然任重而道远。。。。

华大九天作为国产EDA软件的老大
，，，其制作的软件
，，，也仅仅只能实现模拟芯片设计和平板设计全流程覆盖，，覆盖率约为 40%。。。

此外
，，，，国际上最先进的EDA软件其工艺已经达到了2纳米，，，
，而国产软件最高端的也仅仅只有一款能够达到5纳米。。
。。

可以说在设计软件方面，，，，发达国家已甩了我们好几条街
，，，不过可以确定的是
，，，华为事件发生之后，，，，随着国家政策的倾斜，，以及资本的关注
，，
，中国的EDA软件必会奋起直追，，，达到世界一流水平并不遥远。。。
。

总而言之
，，
，以美国为首的发达国家
，，，，之所以会联合起来对中国进行全方位的围追堵截，
，恰恰是因为中国已经有了威胁他们的资格，，发达国家尤其是美国惧怕中国进一步发展，，，，从而威胁到其世界霸主的地位，，
，，才会无所不用其极的遏制中国发展。。
。。

美国的一套组合拳确实给中国带来了很大麻烦，
，但这又何尝不是一个让中国优化产业结构，，
，摆脱对发达国家依赖的机会？？？

正所谓危机、、
、危机，，危中有机，，，如果中国通过这次教训
，，，能够认清现实，，，，未尝不能转危为机！！！